高真空蒸發鍍膜儀采用前開門真空室設計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發源之間的距離有較大的調節范圍，可適應多種蒸發要求，避免樣品在蒸發源中高處損壞。

　　高真空蒸發鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發源和水冷銅電極。每個蒸發源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設備真空系統為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統，可提供潔凈無油的高真空環境。該設備配有氣動閥門系統。通過操作系統的自動控制，用戶可以通過觸摸屏進行一鍵抽真空、不停機采樣、*關機等操作。

　　蒸發鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，可滿足各種普通金屬的蒸發和部分非金屬的蒸發。真空室由非不銹鋼制成。出廠時已脫氣，配合分子泵組可達到極限真空，可滿足大部分物料蒸發所需的真空環境。真空室采用翻蓋式開啟方式，取放方便。腔體設有帶擋板的自適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板可有效防止觀察窗被薄膜材料污染。

　　高真空蒸發鍍膜儀是一個多功能系統，具有靈活性和模塊化可擴展性，可適應不同的樣品制備。它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件蒸發中蒸發碳和金屬?？梢詰靡幌盗薪涍^驗證的技術，包括碳涂層和TEM涂層、碳/金屬蒸發、使用雙源蒸發的小角度和順序涂層，并且可選的濺射涂層附件可以應用于各種目標。

　　1、采用微處理器控制器，提高了系統的靈活性，用戶可以方便地添加各種選項。但是，這些“默認”操作已經過優化，因此可以實現自動和手動操作。

　　2、*的抽屜式上樣系統，方便用戶放入各種樣品，鉸接式頂蓋結構方便到達系統其他區域。

　　3、渦輪分子泵安裝在系統外，蒸發鍍膜儀安裝更換方便。它的前置真空是旋轉真空泵。整個抽氣過程是全自動的，達到高真空后會蒸發。儀器為臺式，使用中疏忽易控制，易損壞。