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高真空蒸發鍍膜儀確保碳膜穩定且可再現

更新時間:2023-02-24      點擊次數:802
  高真空蒸發鍍膜儀特別適用于蒸發對氧敏感的金屬膜(如Ti、Al、Au等)以及各種氧化物材料。如果改變一些配置,還可以實現有機材料的蒸發涂層,這可以滿足發光器件和有機太陽能電池的研究要求,是一種涂層效果理想的實驗設備。
  
  1、一體化設計,結構緊湊,節省空間。
  
  2、微粒涂層-適用于高級高分辨率場發射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)樣品制備。
  
  3、渦輪分子泵高真空系統-高真空碳蒸發,適用于SEM和TEM碳涂層應用。
  
  4、全自動觸摸屏控制-快速數據輸入,操作簡單。觸摸屏被用作簡單的操作核心,即使是不熟練的操作員也可以使其快速鍵入并存儲自己的處理數據。程序中存儲了各種典型的涂層參數數據,供用戶直接調用,為新手提供進一步的操作幫助。
  
  5、高真空蒸發鍍膜儀可以存儲多種定制的涂層解決方案-非常適合多用戶實驗室。
  
  6、自動進氣控制真空與涂層工藝和涂層材料相匹配-無需調整針閥。
  
  7、精細厚度控制-使用薄膜厚度監控選項。
  
  8、“智能”系統識別-自動感知用戶安裝的插入式涂層頭的類型。
  
  9、先進的碳棒蒸發槍設計-操作簡單,重復性好。
  
  10、高真空蒸發鍍膜儀蒸發電流波形控制-確保碳膜穩定且可再現。

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