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OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等離子體化學氣相沉積）滑動式開啟式管式爐系統。此套設備帶有300W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和機械泵組成。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統。對于有限的經費的情況下來進行材料探

4路質子混氣管式PECVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）， 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。

OTF1100X11Z3LV CVD system consists of 11" diameter three zone tube furnace with mechanical vacuum pump system (up to 10-2 torr ) and 6 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases for CVD or diffusion